熱處理溫度對(duì)三氧化鎢薄膜光致發(fā)光性能影響

制備三氧化鎢（WO3）薄膜過(guò)程中不同的熱處理溫度會(huì)對(duì)WO3 薄膜光致發(fā)光性能的影響，為了驗(yàn)證這種說(shuō)法，采用聚合物前驅(qū)體法在FTO 導(dǎo)電玻璃襯底制備三氧化鎢（WO3）薄膜，并測(cè)試了不同溫度下煅燒 3 h制備的薄膜樣品的發(fā)射光譜，結(jié)果如圖所示。

由圖可見，所有樣品的最強(qiáng)峰位置沒有明顯區(qū)別，均在475 nm左右；發(fā)射強(qiáng)度隨煅燒溫度的升高而顯著提高，并且發(fā)射峰也隨之變得更加尖銳。當(dāng)煅燒溫度為400℃時(shí)，薄膜呈現(xiàn)出了較弱的發(fā)射強(qiáng)度，同時(shí)其發(fā)射峰也較寬，這可能主要是薄膜中殘留有機(jī)物的競(jìng)爭(zhēng)吸收及含有較多缺陷所造成的。此外，在較低溫度下，WO3晶格形成不完善，存在大量缺陷，這些缺陷在能量傳遞的過(guò)程中成為猝滅中心，阻斷了從基質(zhì)晶格向激活劑離子的能量傳遞。隨著煅燒溫度的升高，WO3薄膜晶化程度不斷提高，晶粒尺寸增大，相關(guān)缺陷被逐漸去除，從而使得 W6+傾向于得到更多的能量，能級(jí)中有更多的電子受到激發(fā)并通過(guò)輻射躍遷發(fā)光。