WO3薄膜可以通過射頻磁控濺射法製備得到，作為電致變色膜，用於組裝全固態(tài)靈巧窗，被認(rèn)為是最具有應(yīng)用前景的新型節(jié)能材料之一。有專家通過該法製備得到三氧化鎢薄膜，並對(duì)沉積氧化鎢薄膜的各項(xiàng)性能進(jìn)行測(cè)試。
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那麼，射頻磁控濺射法製備WO3薄膜的工藝條件有哪些？鍍膜室極限真空為1×10-3Pa，濺射靶材為燒結(jié)WO3陶瓷靶，靶面積為78cm2。濺射氣體氬氣及工作氣體氧氣的純度均為99.999%，濺射氣體總壓強(qiáng)為1.1-2Pa，氧氣分壓強(qiáng)0.1-0.2Pa，靶功率密度為1.4-1.9W/cm2，沉積速率為6-8nm/min，沉積時(shí)間為15-20min。所沉積電致變色膜有效面積為5cm×5cm。沉積氧化鎢薄膜的性能測(cè)試結(jié)果如下：漂白態(tài)可見光透射率：>82%；著色態(tài)可見光透射率：<20%；回應(yīng)時(shí)間：<10s；開路存儲(chǔ)時(shí)間：>24h（ΔT>20%）；工作迴圈週期：>105次；工作電壓：<±1.9V。
