以多孔硅為基底氧化鎢薄膜4/5

通過設(shè)置對比實(shí)驗(yàn)，根據(jù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)對多孔硅和氧化鎢薄膜復(fù)合光敏材料進(jìn)行氣敏性能分析。三氧化鎢薄膜與多孔硅復(fù)合后相比多孔硅對NO2的靈敏度大大提高，而且材料的靈敏度受氧化鎢薄膜的厚度和形貌影響。

響應(yīng)／恢復(fù)時(shí)間表示了材料對氣體的吸脫附快慢程度，其中響應(yīng)時(shí)間定義為從初始值開始變化到穩(wěn)定值與初始值差值的90%所經(jīng)歷的時(shí)間，而恢復(fù)時(shí)間定義為從穩(wěn)定值開始變化到初始值與穩(wěn)定值差值的90%所經(jīng)歷的時(shí)間。多孔硅對NO2的恢復(fù)時(shí)間比響應(yīng)時(shí)間長，而且在低濃度下這一現(xiàn)象更明顯，這可能是因?yàn)榈蜐舛葧r(shí)氣體濃度差較小，NO2氣體的脫附會比較慢。有序多孔硅比孔徑更小的海綿狀多孔硅有更快的響應(yīng)/恢復(fù)時(shí)間。

氧化鎢薄膜與多孔硅復(fù)合后靈敏度大大提高，濺射的氧化鎢薄膜對于提高多孔硅對NO2的氣敏性能有顯著作用。氧化鎢薄膜的厚度和形貌對于材料的靈敏度有明顯影響，鍍膜時(shí)間較長，氧化鎢薄膜將多孔硅表面完全覆蓋，且薄膜比較致密，降低了靈敏度和整體的比表面積；鍍膜時(shí)間較短，沉積的氧化鎢薄膜質(zhì)量較少，沒有與多孔硅形成連續(xù)有效的復(fù)合結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致其靈敏度的提高受限。有序多孔硅/氧化鎢薄膜復(fù)合結(jié)構(gòu)不僅同樣有較快的響應(yīng)/恢復(fù)時(shí)間，也表現(xiàn)出了更高的靈敏度。